Head of Design & Algorithms EUV Systems (m/w/x)
Eckdaten der angebotenen Stelle
Arbeitgeber | ZEISS Group |
Postleitzahl | 99986 |
Ort | Niederdorla |
Bundesland | Thüringen |
Gepostet am | 22.11.2024 |
Remote Option? | - |
Homeoffice Option? | - |
Teilzeit? | - |
Vollzeit? | - |
Ausbildungsstelle? | - |
Praktikumsplatz? | - |
Unbefristet? | - |
Befristet? | - |
Stellenbeschreibung
Head of Design & Algorithms EUV Systems (m/w/x) Enabler für kleinere, leistungsfähigere und energieeffizientere Mikrochips. Arbeiten, wo das Morgen entsteht. Was darf bei keinem Smartphone fehlen? Genau, der Mikrochip – das Herzstück eines jeden elektronisch gesteuerten Systems. Rund 80 Prozent aller Mikrochips weltweit werden mit ZEISS Technologien gefertigt. ZEISS ist Technologieführer im Bereich Halbleiterfertigungs-Equipment. Mit hochpräzisen Lithographie-Optiken, Photomasken-Systemen und Lösungen für die Prozesskontrolle ermöglicht ZEISS die Herstellung von immer kleineren, leistungsfähigeren und energieeffizienteren Mikrochips – und prägt so mit seinen Innovationen das Zeitalter der Mikro- und Nanoelektronik entscheidend mit. Ihre Rolle Sie möchten den Motor der Digitalisierung in einem interdisziplinären Umfeld mitgestalten? Sie können eine Gruppe von 10-15 Mitarbeitern führen und weiterentwickeln, haben Begeisterung für Technik und Talent im Umgang mit Menschen? In der Abteilung Surface Figure Metrology EUV der ZEISS Sparte Semiconductor Manufacturing Technology gestalten wir gemeinsam die Zukunft der Halbleiterlithografie mit Messprozessen und Konzepten für die hochgenaue Bestimmung der Oberflächenform unserer EUV-Optiken. In der Abteilungsgruppe Design & Algorithms EUV - ist es unsere Aufgabe, Konzepte, Algorithmen und Messprozesse zu entwickeln, beginnend mit ersten Ideen bis hin zu extrem performanten serientauglichen Messprozessen. Wir stehen für hohe Fachexpertise, hohe Selbstverantwortung, ein unglaublich motivierendes Umfeld und eine Kultur des gemeinsamen Wachsens. Sie leiten die neu geformte Gruppe Design & Algorithms EUV Systems fachlich und disziplinarisch. Sie entwickeln zusammen mit Ihrem Team Konzepte und Messprozesse für Bestimmung der Oberflächenform von EUV-Optiken im sub-Nanometer Bereich. Sie stellen in enger Zusammenarbeit mit allen Stakeholdern exzellente Ergebnisse in Ihrer Abteilung sicher. Sie fördern sowohl die Weiterentwicklung der Gruppe als auch die individuelle Entwicklung ihrer Mitglieder. Sie sorgen dafür, dass benötigte Kompetenzen, Kapazitäten und Technologien geplant, entwickelt und vorgehalten werden und unterstützen damit das strategische Wachstum der SMT. Sie pflegen Beziehungen zu externen Entwicklungspartnern und kümmern sich um die Erweiterung des vorhandene Partnernetzwerks. Sie verantworten Prozesse, Arbeitsweisen und Arbeitssicherheit in der Arbeitsgruppe. Ihr Profil Sie können einen sehr guten technischen oder naturwissenschaftlichen Hochschulabschluss vorweisen, gerne auch mit Promotion. Sie besitzen mindestens 3 Jahre Berufserfahrung in einem komplexen technischen Umfeld – idealerweise bereits im Bereich Konzept, Algorithmen und -Messprozessentwicklung höchstgenauer optischer Messsysteme. Sie arbeiten sich gerne und zielstrebig in neue komplexe Themenfelder ein. Sie haben Erfahrung in der disziplinarischen oder fachlichen Führung von Mitarbeitenden und Teams. Sie bringen sehr hohe Eigeninitiative, Verantwortungsbereitschaft und die Fähigkeit mit, Veränderungen erfolgreich umzusetzen. Sie zeichnen sich durch eine ausgeprägte Kundenorientierung verbunden mit unternehmerischem Denken und Handeln aus. Diversity is a part of ZEISS. We look forward to receiving your application regardless of gender, nationality, ethnic and social origin, religion, philosophy of life, disability, age, sexual orientation or identity. Apply now! It takes less than 10 minutes. #J-18808-Ljbffr